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公司成功突破用于半导体清洗行业的高浓度臭氧水设备的关键技术

2021-07-20 1052 分享

  近日,公司用于半导体清洗行业的高浓度臭氧水设备的核心技术取得重大突破:1、高浓度臭氧发生技术2、液位掌握技术3、高浓度臭氧水的制取技术4、臭氧水溶浓度探测技术。用这些核心技术组装的用于半导体清洗行业的高浓度臭氧水设备经过测试,臭氧水浓度可以高达50PPm,并能实现臭氧水不同浓度的精准掌握,满足半导体清洗行业应用需求。

  近年来,随着全球集成电路市场追渐步入成熟发展阶段,通讯系统、消费电子、集成电路、光伏发电等技术领域迅猛发展,集成电路制程工艺节点越来越先进,清洗环节的紧要性日益凸显。随着线宽的微缩,晶圆制造的良率随线宽的缩小而下降,提高良率的方式之一就是增加清洗工艺。在高科技领域:半导体制造过程中,晶圆或器件清洗,去除有机物、颗粒和金属;硅上的薄氧化物的生成、表面处理、钝化;在微机电系统以及高科技光学系统清洁中:例如激光设备、平板显示器等的玻璃基板的清洁;在高纯度系统中的管道和设备的消毒和清洁;在低端的太阳能制作过程中的极板清洗等领域都会用到高浓度臭氧水。

  传统清洗法大量使用NH4OH、HCL、H2SO4、H2O2等化学试剂,高纯度的化学试剂增加工艺成本,同时也会带来环境污染和废液处理问题。高浓度臭氧水清洗法具有特的技术优势:1、氧化清洗彻底,速度快;2、氧化后表面光滑无残留;3、绿色氧化,氧化后转化成氧气;4、无环境污染和废液处理问题。

  目前国内市场上90%以上的高浓度臭氧水设备都是依靠美国进口,尤其在半导体晶圆制程等高科技领域,只有少部分的低端太阳能极板清洗领域采用国产设备。近年来,在全球半导体产业重心继续向中国大陆迁移的背景下,据SEMI统计,2019-2020年韩国、中国大陆、中国台湾是世界前三大设备市场,2021年以后中国大陆将是全球最大的设备市场。伴随着中美关系的紧张,很可能会导致卡脖子现象,各大半导体生产企业也在寻找新的替代者。国林公司作为国内臭氧行业的龙头企业,有责任有义务霸占此设备技术难关,充分参与市场竞争,打破这种垄断局面。

  高浓度臭氧水设备关键技术的突破,为制作高浓度臭氧水设备打下了坚实基础,公司将围绕自身优势、提升核心技术,将会突破国外技术开放与垄断,进而替代进口设备,在世界半导体行业有更多的话语权,与中国半导体业共同成长,为我国的科技发展贡献力量。